原位高溫XRD反應池應用于常壓、高溫氣固相化學反應的原位XRD測試與表征，配置了鈹窗/聚酰亞胺膜作為窗口材料；配置了溫控儀/焦耳加熱電源，產生高溫并與樣品臺及樣品臺內樣品進行有效熱交換于，通過溫控系統對反應池內樣品溫度進行控制；配置了冷卻循環系統和循環水冷機，通過低溫循環冷卻液對反應池殼進行冷卻降溫處理。
| 溫度測試范圍 | 室溫-1200℃ |
| 池體材質 | 哈氏合金C276(內嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內嵌陶瓷) |
| 窗口 | 進口PI膜/鈹窗 |
| 控溫精度 | ±0.1℃ |
| 溫度均勻性 | ±1℃ |
| 池體外表面溫度 | ≤40℃ |
| 氣氛 | 可通氣氛 |
| 水冷配置 | 1200W循環水冷機 |
| 溫控配置 | 焦耳加熱電源系統，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件) |
| 池體材質 | GH2747 |
| 分離式樣品臺 | 氮化鋁 |
| 窗口 | 聚酰亞胺膜 |
| 測試溫度 | 常溫~1000 ℃（空氣或氧氣環境） |
| 控溫精度 | ±0.1℃ |
| 溫度均勻性 | ±1℃ |
| 池體外表面溫度 | ≤40℃ |
| 氣氛 | 可通氣氛 |
| 水冷配置 | 1400W循環水冷機 |
| 溫控配置 | 定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件) |
| 池體材質 | SUS316L |
| 窗口 | 聚酰亞胺 |
| 密封圈 | 硅膠 |
| 測試條件 | 常溫-600℃ |
| 壓力范圍 | 0-0.3MPa |
| 控溫精度 | 0.1℃ |
| 溫度均勻性 | ±1℃ |
| 氣氛 | 可通腐蝕性氣氛，如氨氣，二氧化硫等 |
| 水冷配置 | 270W循環冷水機 |
| 溫控 | 定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作 |
| 池體材質 | 316L不銹鋼 |
| XRD窗口 | Be |
| 密封圈 | 氟膠圈 |
| 溫度測試范圍 | 常溫~300℃? |
| 控溫精度 | ±0.1℃? |
| 溫度均勻性 | ±1℃? |
| 氣氛 | 可通氣氛 |
| 光源 | 可引入外部光源 |
| 溫控配置 | 定制溫控儀，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件)? |
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